Главная --> Справочник терминов


Рельефное изображение На рис. III.9 представлена принципиальная технологическая схема осушки газа абсорбционным методом. Влажный газ направляется в нижнюю часть абсорбера /, а концентрированный гликоль подается на верхнюю тарелку абсорбера. С верха абсорбера уходит осушенный газ, с низа — обводненный гликоль. Газ направляется потребителям, а гликоль далее нагревается в рекуперативном теплообменнике 2 и поступает в выветриватель 3, где из него выделяются поглощенные в абсорбере углеводороды (конденсат). После выветривателя 3 гликоль нагревается в рекуперативном теплообменнике 4 и поступает в десорбер 5. С верха десорбера 5 отводятся пары воды и оставшееся количество газа, с низа — регенерированный гликоль, который после охлаждения

На рис. III.11 показана принципиальная технологическая схема процесса абсорбционной осушки газа с вакуумной регенерацией гликоля. Влажный газ поступает в низ абсорбера /, а концентрированный гликоль подается насосом 2 на верхнюю тарелку абсорбера. С верха абсорбера уходит 'осушенный газ, с низа — насыщенный водой гликоль, который направляется на регенерацию. Он нагревается в рекуперативном теплообменнике 5 за счет

Очищенный газ после сепаратораД^аправляется потребителям. Насыщенный абсорбент поступаетJв экспанзер (сепаратор) 3, где за счет дросселирования раствора из абсорбента выделяются поглощенные в абсорбере углеводороды (экспанзерный газ используется в качестве топлива). После сепаратора 3 насыщенный абсорбент нагревается в рекуперативном теплообменнике 6 до 95—100 °С и поступает в среднюю часть десорбера 7, где из него отпариваются кислые газы, вода и оставшиеся углеводороды. Температура в нижней кубовой части десорбера 7 поддерживается 115—130 °С за счет нагрева растворителя, стекающего с нижней тарелки десорбера, в рибойлере 11 (рабочее давление в десорбере 0,15 МПа).

Смесь кислых газов, паров воды и углеводородов выходит с верха десорбера 7, охлаждается в воздушном и водяном холодильниках 8 и 9, после чего двухфазная смесь поступает в емкость-сепаратор 10, где вода отделяется от кислых и углеводородных газов; вода из емкости 10 подается в качестве орошения на верхнюю тарелку десорбера, для предотвращения уноса моноэтаноламина с верхним продуктом, а кислые газы направляются на установку по производству серы. Регенерированный раствор алканоламина после охлаждения в рекуперативном теплообменнике 6, в воздушном и водяном холодильниках 5 и 4 подается в абсорбер 1 с температурой 35—45 °С (на схеме не показан узел очистки растворителя от механических примесей и нерегенерируемых высокомолекулярных соединений). Технологические показатели процесса приведены в табл. III.3.

Исследования, выполненные ВНИПИгазодобычей, показали большую эффективность турбодетандерных агрегатов (ТДА) по сравнению с другими схемами подготовки природного газа. Например, экономический эффект по всему Уренгойскому газоконден-сатному месторождению при использовании ТДА вместо глико-левой осушки, длинноцикловой адсорбционной осушки цеолитами и силикагелем, короткоцикловой адсорбции определяется в 20 млн. рублей [79]. Принципиальная схема промысловой установки НТК с турбодетандером для переработки приведена на рис. III.38. После первичной обработки во входном сепараторе / газ охлаждается в рекуперативном теплообменнике 2, проходит в сепаратор I ступени 3, расширяется, охлаждается и частично конденсируется в турбодетандере 4 и поступает в сепаратор II ступени 5. Из сепаратора газ подается в межтрубное пространство теплообменника 2 и после сжатия в компрессоре 6, находящемся на одном валу с турбодетандером, направляется в выходной коллектор (на рисунке не показан), а затем в магистральный газопровод. Выделившийся в процессе сепарации конденсат поступает на установку стабилизации.

Природный газ (давление 5,9 МПа) охлаждают в рекуперативном теплообменнике / и пропановом испарителе 3 от 18 до —37 °С, в результате чего часть газа конденсируется. Для предотвращения гидратообразования при охлаждении газа в сырьевой поток перед теплообменником 1 вводят раствор этиленгликоля. Из пропанового испарителя 3 смесь газа, обводненного этиленгликоля и сконденсировавшихся углеводородов (конденсата) поступает для разделения в сепаратор 6. После сепаратора обводненный этилен-гликоль подают на блок регенерации (на схеме не показан), конденсат— в абсорбционно-отпарную колонну 12, а газ направляют — один поток в узел предварительного насыщения регенерированного абсорбента (пропановый испаритель 4 и сепаратор 5), другой поток — в нижнюю часть абсорбера 7.

Природный газ (давление 3,2 МПа) охлаждают в рекуперативном теплообменнике / и пропановых испарителях 2 и 4 до —37 °С. Для предотвращения гидратообразования при охлаждении газа в сырьевой поток перед пропановым испарителем 2 вводят раствор этиленгликоля, который после насыщения влагой отделяют от газа в сепараторе 3 и направляют на регенерацию (на схеме не показана система регенерации этиленгликоля). В поток сырого газа перед пропановым испарителем 4 подают часть насыщенного абсорбента для предварительного извлечения из газа тяжелых углеводородов (С4+1ШСШИ(Г).

С верха АОК получают сухой газ, который после узла предварительного насыщения (пропанового испарителя 10 и сепаратора 11) и рекуперации холода в теплообменнике 1 направляют потребителям. С низа абсорбционно-отпарной колонны 12 отводят деэтанизированный насыщенный абсорбент. Этот поток нагревают в рекуперативном теплообменнике 15 и подают в питательную секцию десорбера 21 (рабочее давление в аппарате 1,4 МПа). С верха десорбера выходит деэтанизированная широкая фракция углеводородов С3+ЕЫСШИе, которая после конденсации и охлаждения в воздушном холодильнике 18 поступает в рефлюксную емкость 19. Часть ШФУ используют для орошения десорбера, а избыток охлаждают в воздушном холодильнике 20 и откачивают

С низа десорбера 21 получают регенерированный абсорбент. После охлаждения абсорбента в рекуперативных теплообменниках 15, 14, 13 и 16, в воздушном холодильнике 17 и в рекуперативном теплообменнике 9 один поток абсорбента смешивают с сухим газом абсорбера, охлаждают в пропановом испарителе 7 и после сепаратора 6 подают в абсорбер 8; другой поток смешивают с сухим

По схеме Белорусского ГПЗ сырой газ делится на два потока. Одна часть без охлаждения подается в среднюю часть колонны, а вторая после охлаждения — в верхнюю ее часть (в заводской схеме первый поток составляет 60, а второй 40% общего потока). Поток, подаваемый в верхнюю часть колонны, охлаждается вначале в рекуперативном теплообменнике / потоком отбензиненного газа, выходящего с верха колонны 5, а затем после смешения с верхним продуктом, выходящим из колонны, в пропановом испарителе 2 до —26 °С, и частично конденсируется. Двухфазный

подаются непосредственно в полимеризатор. Сополимеризац'ия проводится при давлении 0,9 МПа и температуре 10 °С; выделяющаяся теплота отводится испаряющимися углеводородами, которые выводятся из верха полимеризатора, отделяются от унесенных газовым потоком частиц каучука на фильтре 2, проходят рекуперативный теплообменник 3 и поступают в емкость 6. Газообразные углеводороды — смесь пропилена (до 80%), этилена и водорода — подаются на компрессор 5, компримируются, частично конденсируются в конденсаторе 4, охлаждаются в рекуперативном теплообменнике 3 и поступают в сепаратор 7. Жидкая фаза подается в линию шихты, а газообразные продукты возвращаются в полимеризатор отдельным потоком.'Для регулирования молекулярной массы образующегося сополимера используют водород, который подается в линию циркулирующих углеводородов перед фильтром 2.

можно наносить позитивное рельефное изображение. Ленты из пленок

Принцип избирательной лиофилизации поверхности был распространен на многослойные металлические подложки, у которых слои различных металлов отличались по гидрофильности. При стравливании верхнего слоя по определенному рисунку образовывалось рельефное изображение, одни элементы которого (один металл) воспринимали олеофильную краску, а вторые (другой металл) ею не покрывались.

бражение в слое резиста. Полученный таким образом рельеф («контактная маска») служит затем защитным слоем при селективном травлении или металлизации поверхности подложки в открытых местах, что дает возможность перенести рельефное изображение на подложку. Степень соответствия элементов изображения имеющимся на шаблоне, использованном при экспонировании, служит мерой качества литографического процесса в целом. Тем не менее, последующие операции с первичным изображением также влияют на конечный результат, что заставляет весь литографический процесс рассматривать комплексно [1].

Полученное в результате фотолитографии рельефное изображение шаблона в слое резиста (негативное или позитивное), нанесенного на слой диоксида или нитрида кремния, находящийся на кремнии, служит защитной маской при вытравливании этих диэлектриков до кремния; в эти окна при последующих операциях идет диффузия примесей в кремний. При этом получают требуемые характеристики отдельных транзисторов и схемы в целом. Большая интегральная схема содержит десятки тысяч транзисторных элементов, соединенных проводниками: алюминием или поликристаллическим кремнием с высоким содержанием примесей. Для образования сложной интегральной схемы литографический процесс надо проводить несколько раз, при этом каждый элемент схемы должен быть воспроизведен с требуемой точностью [4].

В пат. Великобритании 2082339 для получения печатной формы на анодированный алюминий наносят композицию из 3 ч. гваяцилового или ж-толило-вого эфира 5-сульфо-2-диазо-1-нафталинона, 6 ч. НС, 0,5 ч. резола из крезола. Выдерживают экспонированный, но еще не проявленный слой при 60—120 °С. При этом идет декарбоксилирование инденкарбоновой кислоты, что приводит к потере растворимости в щелочи экспонированных участков. Засвечивают весь слой, в результате образуется замещенная инденкарбоновая кислота и достигается растворение в щелочи всех нефотолизованных при первом экспонировании участков слоя. В результате создается негативное рельефное изображение шаблона. Термообработка при 220 °С резко улучшает механические свойства рельефа. Успех обращения и эффективность заключительной термообработки авторы связывают с наличием в слое резольной смолы.

В пат. США 3219447 тщательно смешивали НС с арнлсульфонатамн HI видуальных солей диазония (производных 4-амино-дифениламина, -дифеш вого эфира, -дифенисульфида, -дифенила, 3-аминокарбазола, 4-аминозамеи ных 1-диазониев ряда бензола) и из раствора в органическом растворит содержащем 1 % дназония и 5 % НС, формировали на алюминиевой или i ковой подложке светочувствительный слой. При фотолизе и щелочном пр ленин (5 % Na3PO4 в воде с добавкой этилцеллозольва) создавали ПОЗНТНЕ рельефное изображение оригинала, пригодное для использования в каче( печатной формы. Авторы пат. ПНР 100571 в аналогичную композицию ввод дополнительно гексаметилентетрамин. Позитивное изображение оригинала б получено на цинке в результате экспонирования и щелочного проявления точувствнтельного слоя из 3 ч. диазосмолы типа В [конденсат 4,4'-дн(ацето] метил)дифенилового эфира и З-метокси-4-диазодифеннламина] и 10 ч. НС [; США 3867147, примеры 54, 55, 61]. Однако слой из смеси НС н неочищен смолы типа А, полученной в фосфорной кислоте, давал негативное изобра ние оригинала при проявлении водой [пат. США 3396019; пат. Великобрита 1280885; пат. ФРГ 1447957]. Очевидно, диазосмолы и соли дназоння, аш гнчно хинондиазидам, препятствуют растворению НС в щелочных раство[ если же диазоний разрушен, то даже структурированная под действием ct

Способ «переноса изображения» позволяет при применение фоторезистных композиций получать рельефное изображение на слое подложки и одновременно на верхнем прозрачном покровном слое. Светочувствительный слой является промежуточным межд> несущим и принимающим слоями. В настоящее время предлагается ряд светочувствительных композиций, содержащих обычный набор очувствителей — сшивающих агентов или сенсибилизаторов и специально выбранные пленкообразующие. В результате различных химических реакций промежуточный слой после экспонирования обретает способность к дифференцированному расслаиванию облученных и необлученных участков, что позволяет получать одновременно негативную и позитивную копии изображения. Такие светочувствительные системы предлагаются для изготовления офсетных печатных и шелкографических форм, одновременной передачи инженерных рисунков в рабочей (позитивной) и контрольной (негативной) копиях. Основным преимуществом способа является упрощение технологии получения фоторельефа за счет отказа от проявления в ванне с жидкими составами. Однако, подобный перенос изображения должен снижать разрешающую способность слоев, достигнутую в обычно используемых светочувствительных системах, поэтому в разработках последних лет выбор всех материалов и режимов проведения процесса с переносом рельефнрго изображения направлен на создание прежде всегс высокоразрешенных систем.

Рельефное изображение, используемое в качестве печатной формы, получают сухим проявлением с контрольным переносом изображения [заявка Великобритании 2026709]. При этом экспонированный светочувствительный материал (рис. VI. 2), состоящий из жесткой подложки 1 с нанесенным слоем фоторезиста 2, приводят в контакт, пропуская между печатными валиками 4, с бумагой или полимерной пленкой 3. Для того чтобы неэкспонированные участки слоя перешли на контактный лист, используют жидкие активаторы 5, которые можно наносить либо на слой светочувствительного материала после его экспонирования (рис. VI. 2, а), либо на конкретный лист (рис. VI. 2, б), либо, что

Обе подложки, согласно разработанному способу получения изображения с переносом, приводят в контакт только в присутствии жидкого активатора, избирательно действующего на пластичность, набухаемость, растворимость экспонированных либо неэкспонированных участков. После воздействия активатора материал с приемного листа прокатывают печатным валиком и лист вместе с рельефом светочувствительного слоя отделяют от материала, в результате чего на подложке остается четкое рельефное изображение с высоким разрешением (порядка 80 линий/см). Перенесенный на лист рисунок может быть использован для контроля качества изображения. Из жидких активаторов могут быть использованы органические растворители, способные проникать через красочный слой (бензиловый спирт, гликоли, р-этоксиэтанол, глицерин, трихлорэтилен); растворы органических или неорганических оснований (гидроксида натрия, калия или кальция, силиката или фосфата натрия, вторичных, третичных или четвертичных алифатических аминов); растворы органических или неорганических кислот (соляной, фосфорной, серной, лимонной, щавелевой). Если светочувствительный слой водорастворим, то в состав активатора входит вода. Можно вводить в состав активатора ПАВ. Активатор часто содержит смесь вышеуказанных веществ. Например, для светочувствительных составов, содержащих ароматические азиды, а в качестве связующего — циклокаучуки или НС, в качестве активатора рекомендуется смесь трихлорэтилена с метилэтилкетоном, а для составов на основе диазосмол или содержащих диазониевые соли — смесь этанола, воды и кислоты.

версного профиля резиста («взрывная» литография, lift-off). Принцип взрывной литографии состоит в анизотропном напылении слоя А1 на экспонированный и проявленный слой резиста, причем на открытых местах подложки образуются линии, ширина которых определяется шириной окон у наружной поверхности резиста. При этом резко уменьшается расширение профиля элементов (линий) у поверхности подложки. Металл, напыленный на поверхность резиста, затем удаляется вместе с резистом при последующем снятии слоя резиста растворителем. С помощью этой техники недавно удалось получить рельефное изображение с шириной линий 10— 20 им [9].

Растворяя подвергнутый действию света полимер, получают рельефное изображение фотографируемого объекта. Этот принцип используется в полиграфии для изготовления пластмассовых или металлических (с помощью травления кислотой) матриц, а также в радиоэлектронике для изготовления микромодульных элементов печатных схем. Фоторезисты, не обладая в отличие от других светочувствительных материалов зернистой структурой, позволяют получать рельефное изображение с разрешающей способностью, измеряемой нанометрами (молекулярный уровень).




Рекомбинации радикалов Рекомендуется использовать Рекомендуется перегонять Рекомендуется применять Рациональной номенклатуры Рекомендуется устанавливать Рекомендуются следующие Реконструкции действующих Раскрытие пиридинового

-
Яндекс.Метрика